国家知识产权局信息显示，广州十方尺科技有限公司申请一项名为“一种面向射频集成电路版图的地平面处理方法及系统”的专利，公开号CN122965411A，申请日期为2026年8月。

专利摘要显示，本发明公开了一种面向射频集成电路版图的地平面处理方法及系统，属于射频集成电路版图处理技术领域。该方法包括：获取版图数据、工艺规则、接地网络信息及图层信息；根据处理任务执行降密度、拼接和接地屏蔽处理中的至少一种，其中降密度时在可操作区域内生成减密图形并保持地平面接地连接，拼接时对同网地平面执行合并与桥接并保持异网隔离，接地屏蔽时在无源结构下方生成由间隙分隔且接地的屏蔽分支；维护候选图形与来源区域、图层、网络标识的关联关系，对处理结果执行检查并基于违规位置定位关联图形后进行局部修复。本发明能够提高地平面处理的一致性和规则符合性。

天眼查资料显示，广州十方尺科技有限公司，成立于2024年，位于广州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，广州十方尺科技有限公司财产线索方面有商标信息2条，专利信息11条，此外企业还拥有行政许可3个。

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作者：情报员