国家知识产权局信息显示，圆益IPS股份有限公司申请一项名为“等离子体源及基板处理装置”的专利，公开号CN122971899A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，根据本发明一观点的等离子体源可包括：反应主体，结合多个主体部而成，所述主体部内部形成气体扩散空间，并且用单一部件形成以使所述气体扩散空间的内侧表面具有相互连续的表面，在相互结合的多个主体部之间结合形成有一个以上的绝缘部，并且整体形成闭环形状且可激活工艺气体的所述环形通道；磁芯部，形成为包围所述主体部的至少一部分；绕组部，从电源部接收供电，以在所述磁芯部内感应磁力；及冷却介质流动部，形成在所述主体部的至少一部分，使冷却介质流动。

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作者：情报员