国家知识产权局信息显示，深圳市海普微科技有限公司申请一项名为“一种铜镍铬均热片及其真空溅射制备方法与应用”的专利，公开号CN122959675A，申请日期为2026年8月。

专利摘要显示，本发明提供了一种铜镍铬均热片及其真空溅射制备方法与应用，涉及均热片技术领域。本发明提供的制备方法包括对铜基体进行原位离子清洗并活化得活性基体；采用铜靶、镍靶对活性基体的表面进行真空溅射得复合基体，其中铜靶的溅射功率逐渐下降至零，镍靶的溅射功率逐渐上升至预设功率；采用镍靶、铬靶对复合基体的表面进行真空溅射得铜镍铬均热片，其中镍靶的溅射功率逐渐下降至零，铬靶的溅射功率逐渐上升至预设功率。本发明通过形成由富铜向富镍过渡的镀层与由富镍向富铬过渡的镀层，能够改善均热片界面应力集中的问题，并抑制在使用过程中裂纹的形成与扩展，有助于提高均热片的抗热疲劳能力和使用寿命。

天眼查资料显示，深圳市海普微科技有限公司，成立于2022年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市海普微科技有限公司财产线索方面有商标信息2条，专利信息6条，此外企业还拥有行政许可5个。

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作者：情报员