一、半导体光刻胶重大突破
据“中国光谷”报道，光谷企业在半导体专用光刻胶领域取得了重要进展。武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已经成功通过半导体工艺的量产验证。这一产品实现了配方全自主设计，有望在国内半导体光刻制造领域开创全新局面。
T150 A光刻胶对标国际头部企业的主流KrF光刻胶系列，与国外同系列产品UV1610相比，它在光刻工艺中展现出了极限分辨率达到120nm的优异性能。此外，T150 A的工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，对后道刻蚀工艺更为友好。经过验证，T150 A中的密集图形经过刻蚀后，下层介质的侧壁垂直度表现尤为出色。
太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立，该团队在电子化学品领域深耕多年，专注于关键光刻胶底层技术的研发。武汉光电国家研究中心是科技部批准建设的首批国家研究中心之一，具有强大的科研实力和技术积累。
据天眼查信息显示，太紫微公司成立于2024年5月31日，注册资本200万元，实际控制人为朱明强，他持有公司77%的最终受益股份。除了朱明强本人外，公司的另外两家股东分别为湖北高碳光电科技有限公司和武汉市马斯洛普管理咨询合伙企业，朱明强在这两家公司中分别持股100%和8%。
此次T150 A光刻胶的成功突破，标志着我国在KrF系列光刻胶领域取得了重要进展，有望减少对进口光刻胶的依赖，提升国内半导体产业的自主可控能力。
二、国产光刻胶的发展历程与现状
目前，我国集成电路用半导体光刻胶，尤其是高端产品，仍高度依赖进口。日本是我国光刻胶的第一大进口来源国，近年来进口占比一直处于高位。据海关总署数据显示，2023年我国感光化学品进口总额为21.77亿美元，其中从日本进口额达到11.49亿美元，占比52.8%。到2024年上半年，从日本的进口额继续增长，达到6.38亿美元，同比增长16.7%。
全球光刻胶市场格局中，日美厂商占据了主导地位，六家大厂高度垄断了半导体光刻胶的大部分市场。相比之下，我国光刻胶的国产化率还较低，KrF光刻胶整体国产化率不足5%，ArF光刻胶整体国产化率更是不足1%。
然而，近年来我国在光刻胶领域的发展速度不断加快。自2018年国家科技重大专项中的极紫外光刻胶项目顺利通过验收以来，我国在高端光刻胶领域取得了重大进步。此后，国家又发布了一系列鼓励性、支持性政策，推动我国国产光刻胶加速突破。
在国内光刻胶产业链相关企业中，涌现出了一批具有代表性的优秀企业。今年4月，九峰山实验室和华中科技大学组成的联合研究团队，在光刻胶技术方面取得了重要突破。他们研发出了一种具有自主知识产权的“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，并在产线上完成了初步工艺验证。这一研究成果有望为光刻制造的共性难题提供解决方案，并为EUV光刻胶的开发做技术储备。
目前，中国已经成为全球最大的光刻胶市场之一，国内有数十家企业涉足光刻胶领域，并在不断努力提升技术水平和市场竞争力。随着国内科研团队和企业的不断努力，相信我国在光刻胶领域的国产化进程将会不断加快，为半导体产业的自主可控做出更大贡献。
三，国产光刻胶企业汇总
国产光刻胶企业在不同细分市场中的份额存在差异。在低端产品市场中，国产光刻胶龙头均已实现量产，但整体市场份额相对较小。在中端产品市场中，国产光刻胶企业开始量产，但整体份额仍在10%以下。在高端产品市场中，国产份额在1%以下，但近年来开始进入大规模国产替代元年。
1、彤程新材
主营业务：半导体光刻胶、显示面板光刻胶等。
产品特点：在半导体光刻胶领域，彤程新材的子公司北京科华是国内IC光刻胶的领先者，拥有8000吨平板用光刻胶生产能力，是国内首家TFT-LCD Array光刻胶生产商，产品种类涵盖国内14nm以上大部分工艺需求。
2、南大光电
主营业务：先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料。
产品特点：南大光电自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。
3、晶瑞电材
主营业务：半导体光刻胶等电子化学品的研发、生产和销售。
产品特点：晶瑞电材在半导体光刻胶领域也有一定的市场份额，产品适用于不同工艺的芯片制造。
4、上海新阳
主营业务：半导体光刻胶等半导体材料的研发、生产和销售。
产品特点：上海新阳的光刻胶产品适用于多种工艺的芯片制造，且公司在半导体材料领域拥有较为完整的产业链布局。
5、容大感光
主营业务：PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶及配套化学品等。
产品特点：容大感光是国内生产PCB感光油墨产品品种最为齐全的企业之一，其光刻胶产品包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类以及配套化学品。
6、雅克科技
主营业务：电子化学品等。
产品特点：雅克科技在半导体光刻胶领域也有一定的布局，其产品适用于多种工艺的芯片制造，且公司在电子化学品领域拥有较为广泛的客户群体。
7、徐州博康
主营业务：中高端光刻胶及原材料，产品涵盖：ArF/KrF光刻胶：适用于90nm至28nm工艺。I线、封装、电子束光刻胶：满足多样化需求。
产品特点：技术领先：在先进工艺节点有深厚积累。品类丰富：满足多种应用场景。产能强大：大规模生产基地保障供应。
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