能够生产世界上最先进光刻机的荷兰阿斯麦公司换帅了。
公司总裁从温宁克换成了现在的克里斯托夫·富凯，温宁克正式退休。
这个新上来的富凯，原来就是负责公司最先进的极紫外光刻机EUV，就是那种被美国禁止出售给中国的光刻机。
虽然换帅了，但阿斯麦这两位一把手都狂妄地认为，中国的光刻机技术，至少落后西方10-15年。
富凯最近接受采访时就说，中国的中芯国际和华为公司，虽然在受到美国制裁和技术管控的情况下，依然使用阿斯麦的Duv光刻机生产出了等效7纳米的芯片，这样的技术能力非常令人印象深刻。
而且，中芯国际和华为还在着手研发自己的国产EUV光刻机。
但富凯认为，在最好的情况下，中芯国际和华为也要在10-15年时间里才能研发出自己的EUV光刻机。
1-富凯是怎么算出来的？
因为他认为，阿斯麦当年可是花了20年时间才研发出EUV光刻机的。
现在中国公司再次研发，虽然可以借鉴此前的很多已经公开的技术，不用完全从头开始，但应该也还需要10-15年时间。
而且，哪怕到时候中国公司真的研发出来自己的EUV光刻机了，但这个时间里，西方国家的光刻机也会进步，还会研究出更先进的光刻机。
只不过这个光刻机先进到什么程度，连阿斯麦自己也说不出来。
因为说实话，2纳米已经到头了，阿斯麦在未来20年很难在这条技术路线上再突破。而走其他技术路线，它们也就没有先发优势了，大家都是从头开始。
所以富凯的算法对吗？中国研发自己的光刻机，真的还需要10-15年吗？
如果这个10-15年真的像富凯这么按照西方公司的研发时间计算出来的，那么这个时间很可能被严重高估了。
2-为什么被高估了？
首先，就像富凯说的，当时阿斯麦90年代开发EUV光刻机，一切都是从零开始，当时的整体科技水平，也远远落后于现在。现在中国的中芯国际和华为开发，整体的技术方向已经确定了，只需要克服技术难题就可以。这是第一次发明轮子和第二次制造轮子的区别。中国只要沿着已知路线前进就可以，这个过程难度会小很多，不确定性少很多。
其次，阿斯麦当年研发光刻机，那是企业行为，企业要根据自己的财力，根据市场发展，来规划自己的研发和投资。而中国现在研发光刻机，那是国家行为，国家可以不计成本投入，花大力气集中攻关，一鼓作气攻克难题，这是受益比最高最划算的方式。所以从这个角度看，我们所需的时间也会大大缩短。
第三，中国人的工作效率和中国的人才储备，要比西方高出数倍。中国的整体工作效率，无论是加班意愿还是员工努力程度，至少是西方国家的1.5到2倍。其次，中国投入研发的人才，中国体制所能协调的攻关资源，至少是西方公司的4-5倍，甚至可以达到10倍。哪怕这些人力无法产出与西方公司等效的创造力，但总体而言至少是西方公司的2倍以上。
所以综合上面几重元素，中国研发光刻机的能力和效率，保守估计也是西方公司的4-5倍。
除了投入的研发力量和资金，整个研发过程也有一个基本的时间，一个无法缩短的基本时间，那么综合估计，中国研发光刻机的时间，大概是阿斯麦所估计的时间的四分之一到五分之一的时间。
那么换算过来，大概就是3-5年，而不是富凯和温宁克所声称的10-15年。
那么中国拿出自己的国产光刻机EUV的时间，大概在2027年至2029年的样子。
这个时间，只会提前，不会往后了。
3-阿斯麦担心DUV更容易被中国突破
要知道，以前阿斯麦总裁还嚣张地说过，哪怕给中国图纸，中国都造不出光刻机，现在中国造出了28纳米纯国产光刻机，阿斯麦再也不敢这么狂妄了。
富凯在采访中还担心一件事，就是中国研发出EUV光刻机还需要一段时间。这个不是他们最担心的。
但中国研发出自己的DUV光刻机，难度会小很多，那几乎是分分钟的事，会简单得多。富凯都没敢说中国需要多少时间。这说明，中国没准都已经具备这样的技术了。
最有可能的是，中国已经在技术上走通了DUV光刻机，就差商业量产了。
要知道，这个DUV光刻机，就是中国目前使用的最好的光刻机了，可以生产等效7纳米的芯片，已经能运用到包括智能手机在内的几乎所有电子产品中。
有了这种光刻机，中国就已经在芯片竞争中胜出了，完全够保命活下去了。
中国只需要在这种光刻机的基础上，继续前进一两代，达到5纳米、4纳米，都不用到3纳米、2纳米，就咬到西方国家最先进技术的脚后跟了。
如果中国的DUV光刻机技术基本突破，那么说明，更先进的EUV光刻机，其实在理论以及实验室层面也基本走通，在做最后调试攻关了。
所以富凯算出来的10-15年落后时间，真的不过是走夜路吹口哨，给自己壮胆罢了。
其实很好理解。经过这三四十年的发展，中国不仅在制造业方面突飞猛进，而且在理论研究方面，也积累了非常好的基础，对整个的信息化、数字化研发生产，对先进的实验室设备和条件，对大量科学人才的培养，这些都具备条件。
同时，中国又有资金、有政策、有市场、有工艺，啥啥都有，搞个光刻机，真不是什么难事。
托美国的福，相信我们很快会有自己的光刻机。
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