中日俄突破光刻机技术,阿斯麦希望买它的光刻机，二手的也行|euv|光学|阿斯麦

阿斯麦光刻机垄断地位可能被改写，中日俄三国企业从三个技术方向开始突破，阿斯麦的王牌产品EUV光刻机是高端芯片制造的王道，原理是用极短波长的极紫外光雕刻芯片，精度极高，俄罗斯、佳能、中国的新进展可能让ASML垄断地位不保，虽然三家用不同的技术方向进行突破，但是它们选择的技术路径有一个共同的特点就是成本低、能耗少、工艺更简单，只要有一家成功了，阿斯麦好日子就到头了。

俄罗斯的光刻机项目进展最快，本来我是根本不相信俄罗斯有这种能力。你要说俄罗斯准备制造1亿吨当量的原子弹、20马赫的导弹这我绝对相信他们的能力，他们自己连精密机床都做不好，怎么可能做这种比机床精密更加尖端的设备。结果一查，早在苏联时期在激光和精密光学方面就是与美国不相上下，后来俄罗斯继承了这两方面的技术，还是挺厉害的，这不是重点，重点是俄罗斯不走阿斯麦EUV光刻机的复杂路线，这就让他们能造出光刻机成了可能。

据塔斯社12月20日消息，俄罗斯已公布自主研发的光刻机，它就是比ASML 系统更经济的EUV光刻机。这种光刻机将采用波长为11.2nm的镭射光源，而非ASML 使用的标准13.5nm波长。

具体而言，俄罗斯启用 11.2nm 的氙基镭射光源，以取代 ASML 基于激光轰击金属锡液滴产生 EUV 光源的系统。Chkhalo 宣称，11.2nm 的波长能够使分辨率提高约 20%，不但能够简化设计并降低光学元件的成本，而且能够展现更为精细的细节。此外，此种设计能够减少光学元件的污染，延长收集器和保护膜等关键部件的使用寿命。

但是因为这种光刻机的光源功率仅3.6 千瓦，它的晶圆制造产能仅为阿斯麦EUV光刻机的37%，但也足以应付俄罗斯方面小规模芯片需求，我们的光源技术比俄罗斯好太多,如果中俄合作提高光源功率，应该能达到阿斯麦EUV光刻机的70%功能功效,当然这种尖端技术俄罗斯肯定不愿意分享。

相比俄罗斯技术复杂性，日本佳能的走的是技术极简模式，类似于造价便宜的傻瓜相机技术。我们都知道阿斯麦采用的是激光在晶圆上刻东西，这个技术最复杂。难度最大。佳能采用的是NIL纳米压印技术，简单来说，就是像盖章一样，直接“压印”出芯片图案，它的最大特点是，技术不算复杂，因此造价低、能耗少、工艺更简单。

佳能已经造出了样机，但是还没有解决NIL量产，如果接下来几年时间解决了量产难题。因为佳能本身就能生产DUV光刻机,那么直接就把EUV光刻机打成了白菜价了，因为阿斯麦的真正的掌控者是老美。估计老美又要像当年打压阿尔斯通一样。去打压佳能，否则，阿斯麦能不能活下去都成问题了。

这种顶尖技术，我们肯定不愿意一直受制于人,不蒸馒头争口气，早在2023年，荷兰阿斯麦CEO居然公开告诉全世界，因为EUV光刻机有几万个零部件。就算给我们图纸，也造不出光刻机。

结果一年后就被打脸了，上海微电子已经搞出了DUV光刻机,解决了从0~1的问题,那么从1到2制造出EUV光刻机是迟早的事情，只不过时间早晚的问题，

所以现在荷兰阿斯麦改变了态度,愿意销售DUV光刻机,至于EUV光刻机，因为众所周知的原因无法出售,阿斯麦希望购买二手的EUV光刻机,看来阿斯麦是真急了。

他的如意算盘是，向我们倾销DUV光刻机,这要我们研发成功的DUV光刻机就没有市场，因为我们新研发成功的DUV光刻机，良品率肯定没有阿斯麦的高，企业有好的，肯定不买差的。这样我们的DUV光刻机就没有市场，就导致无法大规模量产,没有量产就没有收入，这样公司就没钱去研发更高端的EUV光刻机,这就陷入了恶性循环，不得不说阿斯麦，这招挺阴的。