项立刚：光刻机霸权将成过去式，中国入场，下一步将颠覆市场！|中国|项立刚

ASML前任CEO温宁克曾经当着全球媒体的面撂下一句大实话——孤立中国是没有希望的，因为14亿中国人非常聪明，他们会想出＂我们想不出的办法＂。

这话搁当时，很多人觉得不过是商人的客气话。谁也没想到，不到两年，现实比他的预言走得更快。

2026年4月15日，ASML最新财报出炉。收入87.7亿欧元，同比增长13%，EUV光刻机卖了16台，单台均价大约2.6亿欧元——看上去日子过得不赖。但财报里有个数字，足以让荷兰人心头一紧：中国大陆占比降至19%，从巅峰时期的47%一路跳水。

很多人可能之前没听说过新凯来这个名字。这家成立于2021年的公司，核心使命是突破光刻机等＂卡脖子＂技术，脱胎于华为2012实验室的＂星光工程部＂，核心团队具备20年以上电子设备技术开发经验。企业登记信息显示，新凯来由深圳市国资委全资持有。

2025年3月26日，新凯来第一次在SEMICON China公开亮相，一口气推出了6大类共31款半导体设备，涵盖刻蚀、薄膜沉积、外延设备、量检测等核心环节。产品均用中国各大名山命名，包括武夷山、峨眉山、普陀山、长白山等——覆盖了除光刻机以外的半导体制造全流程。

更关键的是，这些设备并非摆放在展示台的试验样品，而是新发布且可实现量产的半导体设备。项立刚对此的评价很耐人寻味：没有光刻机，光刻机是拿来用的，不是拿来展出的。

到了2025年10月，深圳举办第二届湾区半导体产业生态博览会，深圳市发改委主任郭子平亲自喊话：＂新凯来包含了几个子公司，每个子公司都将在这次展会中带来意想不到的惊喜。＂

新凯来正在开发基于激光诱导放电等离子体（LDP）技术的国产EUV系统，华为在东莞的工厂已经在测试该系统，试生产定于2025年第三季度开始，目标是2026年实现量产。

上海微电子这边也没闲着。2025年5月，上海微电子宣布成功交付首台28nm浸没式光刻机，采用ArFi技术，通过193nm波长光源与浸没式液冷系统的结合，实现等效134nm分辨率。

这台机器随后进入中芯国际和华虹半导体产线验证。28nm虽然不是最尖端的制程，但全球大约八成的芯片应用场景——汽车电子、家电、工业控制——28nm完全够用。能自己造这个级别的光刻机，就意味着绝大多数芯片生产不用再看别人脸色。

更让人兴奋的是技术路线上的＂另辟蹊径＂。中科院搞出来的全固态激光DUV光源，直接绕开了传统准分子激光对稀有气体的依赖，完全基于固态设计，通过自制的晶体放大器走出另一条路——美国阻拦买晶体，中国自己培育；不准用进口硼酸锂，福建的产能全球第一。

哈工大团队在自由电子激光光源方案上取得重要进展，清华团队在稳态微聚束概念上取得世界领先突破。多条路径齐头并进，不把鸡蛋放一个篮子里——这是最典型的中国式打法。

新凯来不是孤例。北方华创、中微公司、拓荆科技、科益虹源、华卓精科、国望光学……一整条国产半导体设备产业链在同时发力。2021年启动，三年左右的时间，从零开始，形成基本能力，不是单点突破，而是全系列的全面突破，覆盖产业链的所有环节。

2025年9月，上海微电子动作更大。在第25届中国国际工业博览会上，上海微电子展台首次公开亮相了极紫外（EUV）光刻机参数图。这是什么信号？是向全世界亮明态度——中国不仅能做DUV，还要向最高端的EUV发起正面冲击。上海微电子已悄然提交多项EUV关键技术专利，明确规划2026年实现国产EUV光刻机小批量交付。

ASML自己心里其实门儿清。现任CEO傅恪礼公开说过：假如把中国逼入困境，中国就会完全脱离西方技术，等到中国完成自主研究开发，＂可能要向我们反向出口了＂。

再看一组数字：2024年中国进口芯片5492亿块，进口金额达3856亿美元，占全球芯片市场约62%。这么庞大的市场需求，足以支撑任何一个技术路线从实验室走到产业化。而历史已经反复证明，中国企业大规模入场之后，＂天价＂变＂白菜价＂只是时间问题——液晶面板如此，新能源汽车如此，5G通信设备如此，光刻机也不会例外。