光刻机和芯片，一直是这两年的热门话题。人们最关心的，是面临ASML光刻机等先进半导体设备的断供危险，中国芯片国产化怎么办？难道中国每年超过4000亿美元的芯片需求，只能是继续买买买吗？还有，ASML真的是想丢掉中国这个超级大客户吗？

形势很严峻，但我们也没必要被吓破胆。其实人家要的就是吓退你走自己生产芯片之路，一直只买他们的芯片这个效果。但这几年我们明白了已无退路，不会上当了。

提到光刻机，大家首先会想到荷兰ASML，ASML可谓是全球光刻机市场独一家。日本尼康、佳能本是光刻机市场老玩家，资历比ASML还深，但现实却是ASML如日中天、一家独大，近乎垄断了中高端光刻机市场。

连尼康、佳能这些光刻机“资深大佬”都已边缘化，只能搞一些中低端产品，那中国还有机会搞自己的先进光刻机吗？下面让我们来看看ASML、尼康、佳能的更多故事。

其实ASML的成功，首先在于其技术路线赌对了，那就是选择了台积电的华裔科学家林本坚提出的浸没式光刻方案，从而一举实现了弯道超车。

林本坚创造性地提出用水作为介质，以突破当时业界碰到的193nm光源波长障碍，通过水的折射，使波长缩小到134nm。

这是个脑洞大开、颠覆式的技术方向，不确定性因素太多，风险巨大。当时领先的两大光刻机巨头尼康、佳能就保守了，他们选择在原有技术路径上改进，继续研发157nm波长的光源，给干式光刻机技术路线续命。

颠覆和弯道超车由此启动。2003年，ASML和台积电合作研发出首台浸没式光刻机TWINSCAN XT:1150i，第二年推出的改进版更加成熟。

ASML浸没式光刻机一举实现132nm波长，此后65nm、45nm、32nm芯片制程很快成为主流。有了浸没式光刻机，半导体行业的摩尔定律实现了一次大跃进。

而尼康耗费巨资、历经多次延误后终于也在2003年搞出了157nm干式光刻机，但这出世时就已落后且再难以提升的技术，失败的命运已注定不可避免。

短短几年时间，到2008年ASML浸没式光刻机市场占有率超过60%，尼康、佳能光刻机已无力扭转市场形势。

此后，针对10nm、7nm以及更先进芯片工艺制程所需，光刻机又进行了一波从DUV（深紫外）到EUV（极紫外）时代的升级。EUV时代的尼康、佳能，却只能是看客了。

先进光刻机市场本来就是小众市场，每年也不过一百多台需求，而顶级EUV光刻机的研发成本又居高不下，根本容不下多家企业进入。

2021年ASML仅卖出42台EUV光刻机，到2022年甚至还少卖了2台。从2011年第一台EUV光刻机售出以来，截止2022年底出货总共也才183台。尼康、佳能已掉队，不可能再跟得上来，这就是现在ASML EUV光刻机独家垄断的局面。

2022年最新数据，从EUV、ArFi DUV、ArF DUV三个高端光刻机机型来看，全球一年共出货157台。其中ASML出货149台，占据95%的市场份额。而尼康出货8台，仅占5%的市场份额，当然其中没有1台EUV。

而中国唯一一家光刻机企业上海微电子，目前主要产品仅用于封装等后道工序，并不能用于晶圆产线最关键的前道工序。据资料显示，上海微电子的90nm光刻机，主要用于电源管理、LCD驱动、WiFI及射频芯片、各类数模混合电路等领域。

作为国家重点项目，由上海微电子负责总装，备受瞩目的28nm国产光刻机，目前仍处在研制过程中，还没有成功的正式消息。去年上海微电子还被美国拉了黑名单，研制工作难免又受到一些影响。

由此可见，目前中国的半导体产业，在先进光刻机设备上，几乎就是百分百的依赖进口。28nm国产光刻机一日不突破，我们就难实现先进芯片的国产化。

在5G、人工智能、芯片、高端手机等领域遥遥领先的华为，所有的核心技术，都离不开先进芯片。华为海思的芯片设计水准已是全球顶级，但芯片制造这个短板却让美国精准抓住了，这让华为体验到了彻骨之痛。

自2020年台积电给华为芯片停产，近3年来麒麟9000 Soc成了绝唱，新发布的华为手机只支持4G，还只能搭载美国高通的骁龙芯片。更多先进的海思芯片，也都面临生产问题。

我们的芯片生产企业，中芯国际、上海华虹等，都拥有完善的成熟制程技术。但中国芯片企业到目前为止，没有买到过一台EUV，所以在先进芯片制造上差距是显而易见的。

好在光刻机的各种技术难关如双工件台、光源及光传输系统等好消息频频传来，28nm国产光刻机应该很快可以揭开盖头了。如果28nm国产光刻机取得突破，通过多重曝光，如中芯国际的N+1、N+2等技术，即可实现14nm甚至7nm芯片生产。

至于更先进的EUV光刻机，我们也在同步研发各种关键技术，据说也有不少突破，当然EUV光刻机肯定还有很长的路要走。

目前最急迫的还是28nm国产光刻机，这是目前华为之急需！华为海思一直没有停止先进芯片的研发，当然也会进行流片、试产等，但没有足量的先进光刻机等国产装备，华为先进芯片的量产就恢复不了。

28nm制程光刻机及相关技术、装备、材料、软件完全独立自主后，我们80%以上的芯片生产即可搞定。保证了产业基本安全，只要我们坚持不懈，EUV时代弯道超车的机会说不定很快就会到来。

目前EUV光刻机动辄近2亿美元的价格，加上EUV设备运行耗电、耗水严重，这条技术路线已到了产业难以承受之际。加上半导体摩尔定律已趋于极限，制程提升越来越难，行业革命的时机到来了。

而EUV光刻机的替代方案也不少，纳米压印光刻（NIL）、直接自组装光刻（DSA）以及电子束光刻（EBL）等技术都各有进展。

我们是不是可以把握住未来几年的机会，也来一个历史性的弯道超车？我们已是遥遥领先的世界工厂，产业基础、市场需求和资金都不是问题，就差下定决心了。

最后再来说说ASML卖与不卖的问题。谁都知道中国这个世界工厂的重要性，ASML当然也不傻。尽管面临的压力很大，ASML一直都在说不会放弃中国市场。

他们当然知道，一旦中国自己的光刻机搞定，就没他们什么事了。到那时白菜价芯片和白菜价光刻机都会出现在全球市场，你说ASML能不急吗？