面对外国对中国光刻机设备的封锁，中国专家曾经说过，3年中国就能造出顶级光刻机，如今已经过去了两年，我国也传来许多新消息，不知道如今中国光刻机具体的发展如何。

面对三年之期即将届满，那么中国光刻机的发展终于到了哪一个地步？在研发过程当中，中国光刻机究竟攻克了哪些技术难关，那么又有哪些问题亟待我国科学家去解决呢？

要知道哪里有压迫哪里就有反抗，面对中国的发展状况，美国对中国发起了限制，限制中国的光刻机进口，并且禁止条例一再升级，这时候荷兰ASML的企业家坐不住了。

ASML是全球最大的光刻机生产厂家，面对美国不断限制中国荷兰ASML公司CEO彼得·温宁克表示：“如果继续加强对中国的封锁，中国用不上三年时间就可以自己造了。”

虽然说三年之期有一些短暂，但是可以看出在荷兰企业家眼里，中国公司的实力很强。

在两年前，北大的名誉院长林毅夫公开表示，对于中国的光刻机技术，如果外国人不再卖给中国，那么中国人自己就能制造出来了，并且从经济学角度向人民许下光刻机的3年之约。

于是中国的光刻机技术就成为了一项难题，但是有着国内外科学家积极的态度可见不是难事。

这个想法其实是ASML彼得的原话，是一种夸张的说法，要知道想要促进光刻机的发展并不是一朝一夕之间就可以完成的，这需要付出大量的人力物力，以及需要对很多技术攻关。

作为全国政协委员的北京大学新结构经济学研究院院长林毅夫，于是这个生长于台湾的爱国人士，便在经济学领域耕耘，更是成为了世界银行的副行长，促进着我国的经济领域改革。

这一次林毅夫对光刻机的看法也是站在经济学领域的，在林毅夫看来，当今世界对光刻机的价格抬得很高，一台光刻机可以超过十几个亿美金，一旦中国研发出来，那么价格就能下降。

毕竟中国作为负责任的大国，绝对不会搞垄断，也不会哄抬价格，会使得价格保持合理区间。

如今我国也能够独立生产光刻机，但是并不是全世界努力攻关的EUV高端光刻机，而是生产出A r FDE90nm的光刻机，中国的第一台光刻机早在上个世纪七十年代就已经造出来了。

只不过那时的中国光刻机才刚刚起步，跟今天达到的成绩不同，正在荷兰公司已经能够突破7nm进程的光刻机的时候，中国还停留在DUV光刻机的科学研究之上，确实有些慢了。

于是荷兰ASML公司在15年前就掌握的EUV的制造技术，在中国这里成为了棘手的难题。

如果中国的光刻机科研事业能够不断坚持，那么中国当今的实力应该已经可以和ASML比肩了，但是在上个世纪八十年代初中国就停止了这项研究，开始依赖国外进口的光刻机。

这也就使得外国光刻机领先我们国家一大步，在20年的时间内，中国光刻机一直被193nm进程的光刻机“卡脖子”这就使得中国光刻机的发展速度逐渐放缓，期间一直进口光刻机。

于是中国的发展就受到了阻碍，如果不是美国的限制，那么中国的光刻机产业或许无法突破。

距离三年前林毅夫第一次提出中国光刻机能够实现自主研发，已经过去了两年，在这两年之间中国光刻机可谓是机遇和挑战并存，光刻机涉及到了光学、机械、材料等多个方面。

中国光刻机如今在这三个方面都实现了技术上的突破，取得了崭新的成绩，正在不断向好发展。与此同时中国的28nm进程的DUV光刻机也可以达到独立生产的地步。

但是如果中国想要继续深耕EUV光刻机，那么还需要走很长的一段路。

如今距离中国专家之前说的3年制造出光刻机已经过去了两年，那么在这两年时间内中国发展可谓是有成果也有挑战。

那么未来中国会如何促进光刻机产业的发展？又是否有足够的能力来应对外国对中国光刻机的封锁呢？