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探索高效的低Ir析氧反应电催化剂是实现质子交换膜电解大规模应用的关键。本文通过在IrO2晶体中掺杂大离子半径Nd,制备了一种高效的非贵重镧系金属掺杂IrO2电催化剂,用于OER催化。掺杂的Nd通过触发应变效应打破了Nd─IrO2的长程有序结构,从而导致Nd─O─Ir键的形成以及氧空位(Ov)的增加,从而导致Nd─IrO2的原子重排,产生了长程无序而短程有序结构。形成的Nd─O─Ir键调整了Ir的电子结构,导致d波段中心降低,削弱了中间产物在Ir位点上的吸收。此外,掺杂Nd主要通过晶格氧活化机制(LOM)触发Nd─IrO2对OER的催化作用。最佳催化剂只需要相对较低的过电位263 mV@10 mA cm - 2,质量活性高达216.98 A gIr - 1 (1.53 V)(是商用IrO2的8倍),并且由于Nd掺杂诱导的抗氧化作用,在50 mA cm - 2 (20 h)下的耐久性优于商用IrO2 (3 h)。这项工作为设计高性能的低Ir电催化剂提供了新的思路。

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a) Nd─IrO2和IrO2的XRD谱图,b) Nd─IrO2的TEM图,c,d) Nd─IrO2的HR-TEM图。e) f)重叠,g) Ir, h) Nd, i) O元素的Nd─IrO2和EDX元素映射图像的SAED模式。

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a) Ir 4f, b) O 1s,和c) Nd─IrO2和IrO2的O种相对含量的XPS高分辨率光谱。d) Nd─IrO2和IrO2的EPR谱。(e) IrO2、Nd─IrO2和标准IrO2的Ir LIII-edge XANES光谱。f) IrO2、Nd─IrO2和标准IrO2在Ir LIII边缘(r空间)的傅里叶变换EXAFS谱。g) Nd─IrO2和NdCl3在Nd LIII边缘(r空间)的傅里叶变换EXAFS谱。h) Nd─IrO2和i) IrO2的Ir LIII边缘的小波变换。j) IrO2中Nd掺杂工艺方案及应变效应和原子重排说明。

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a) Nd─IrO2、IrO2和商用IrO2在0.5 M H2SO4中的LSV曲线(扫描速率:5 mV s−1)。b) 10 mA cm−2下的过电位(η, mV)和Nd─IrO2、IrO2和商用IrO2的计算质量活度(mA, A g−1)。c) Nd─IrO2、IrO2和商用IrO2对应的Tafel图。d) Nd─IrO2、IrO2和商用IrO2的Nyquist图(Rs:溶液电阻,Rct:电荷转移电阻,Q:容量)。e) 1.53 V时TOF值的比较f)在含甲醇或不含甲醇(1.0 M)的0.5 M H2SO4溶液中Nd─IrO2和IrO2的OER活性。g)文献中Ir基催化剂与Nd─IrO2的OER活性比较。h) IrO2和Nd─IrO2的XPS价带谱。i) OER活动改进机制说明。

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a) Nd─IrO2和b) IrO2在不同pH值下的LSV曲线。c) Nd─IrO2和IrO2在1.5 V时随ph的电流密度。d) Nd掺杂对OER机制的影响。

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a) NdIrO2、IrO2和商用IrO2的长期电化学耐久性(50 mA cm−2的CP测试)。b) Nd─IrO2和c) IrO2耐久性试验前后Ir 4f的XPS高分辨率光谱。d)降解和耐久性改善的机制说明。

综上所述,我们通过在IrO2晶体中掺杂镧系金属Nd,设计并合成了一种具有高活性和良好耐久性的低Ir酸性OER催化剂。优化后的Nd─IrO2催化剂在酸性电解液中,电流密度为10 mA cm−2时,过电位仅为263 mV,质量活性(1.53 V时为216.98 A gIr−1)显著提高,约为商用IrO2 (26.97 A gIr−1)的8倍。活性的增强可归因于Nd掺杂引起的应变效应导致电子结构的定制化,从而打破了长期有序结构,引发了原子级重排,从而形成了Nd─O─Ir键和丰富的氧空位。Nd─O─Ir键的存在削弱了Ir反应位点上活性氧中间体(如*OH)的吸收,有利于OER的催化动力学,而更多的氧空位的产生有利于酸性OER采取高活性的LOM路径。此外,所制备的催化剂在50 mA cm−2 (20 h)下的耐久性也明显优于商用IrO2 (3 h),这是由于Nd掺杂的抑制氧化作用,阻止了Ir的过度氧化和溶解。以Nd─IrO2为阳极组装的整体水电解槽在500 mA cm−2时具有约1.7 V的低电池电压,在200 mA cm−2时具有180 h的耐用性。本研究为大规模应用于PEMWE的高性价比OER电催化剂的设计提供了新的思路。

High‐Performance Low‐Iridium Catalyst for Water Oxidation: Breaking Long‐Ranged Order of IrO2 by Neodymium Doping - Wang - Small - Wiley Online Library

https://doi.org/10.1002/smll.202401964