金融界 2024 年 12 月 30 日消息，国家知识产权局信息显示，喻嘉科技（德州）股份有限公司取得一项名为“一种 GaAs 单晶生长用清洗装置”的专利，授权公告号 CN 222220493 U，申请日期为 2024 年 5 月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种 GaAs 单晶生长用清洗装置，包括清洗本体、驱动装置、清洗装置和多个排水口，其中，驱动装置包括驱动组件和传动组件，其中，驱动组件分别设置在清洗本体的两侧；传动组件分别可转动地设置在清洗本体内，且传动组件与驱动组件相连；清洗装置包括清洗组件，其中，清洗组件设置在清洗本体上；多个排水口分别设置在清洗本体上一侧。由此，通过设置驱动组件和传动组件，能够显著增强清洗装置的批量处理能力，大幅提升了清洗效率，同时设置有倾斜角度的传送带，使得单晶在传送过程中能够更全面地暴露于清洗液或清洗气流中，有效避免了清洗死角，从而确保每一块单晶都能得到彻底而均匀的清洗。

本文源自：金融界

作者：情报员