金融界2025年6月17日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“光刻工艺涂胶方法”的专利，公开号CN120161680A，申请日期为2025年04月。

专利摘要显示，本发明公开了一种光刻工艺涂胶方法，包括：步骤一、进行旋转涂胶在晶圆表面涂布一层光刻胶，在旋转产生的离心力的作用下光刻胶在晶圆表面均匀分布并在晶边形成凸起结构。步骤二、从第一喷嘴喷出吹扫气体对晶边进行倾斜向外的吹扫，以使凸起结构的厚度降低并使凸起结构的光刻胶中的溶剂加速挥发。步骤三、进行洗边将晶边的光刻胶去除。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2075次，专利信息2321条，此外企业还拥有行政许可343个。

本文源自：金融界

作者：情报员