一、封装类型详解

1. DIP (Dual In-line Package) - 双列直插封装

  • 特点:引脚从封装两侧伸出,呈两排平行排列,可直接插入PCB孔中

  • 优点:易于手工焊接和更换,机械强度高

  • 缺点:体积大,不适合高密度装配

  • 应用:早期微处理器、存储器,现多用于原型开发

2. SOP/SOIC (Small Outline Package/IC) - 小外形封装
  • 特点引脚从两侧伸出并向外弯曲,贴装在PCB表面

  • 引脚间距:典型1.27mm

  • 优点:比DIP体积小50-70%,适合自动化生产

  • 应用:模拟IC、小规模数字IC

3. QFP (Quad Flat Package) - 四边引脚扁平封装
  • 特点:四边都有引脚,呈鸥翼型向外伸展

  • 引脚数:32-304不等

  • 引脚间距:0.8mm、0.65mm、0.5mm、0.4mm

  • 应用:微控制器、DSP、FPGA

4. QFN (Quad Flat No-lead) - 四边无引脚扁平封装
  • 特点:引脚在封装底部,四周有裸露焊盘

  • 优点:体积小、散热好、电气性能优良

  • 中心焊盘:通常有大面积散热焊盘

  • 应用:射频IC、电源管理IC

5. BGA (Ball Grid Array) - 球栅阵列封装
  • 特点:底部布满焊球,呈阵列排布

  • 焊球间距:1.27mm、1.0mm、0.8mm、0.65mm、0.5mm等

  • 优点:I/O密度高、电气性能好、散热性能好

  • 缺点:需要专业设备焊接和检测

  • 应用:CPU、GPU、FPGA、大规模ASIC

6. CSP (Chip Scale Package) - 芯片级封装
  • 定义:封装尺寸不超过芯片面积的1.2倍

  • 特点:接近芯片实际大小

  • 优点:最小化封装体积,优化电气性能

  • 应用:手机、可穿戴设备等空间受限产品

7. WLCSP (Wafer Level CSP) - 晶圆级芯片尺寸封装
  • 特点:在晶圆状态完成封装,封装等于芯片大小

  • 工艺:重布线→焊球植球→切割

  • 优点:最小尺寸、最短互连、批量生产

  • 应用:手机射频开关、电源管理IC

8. SiP (System in Package) - 系统级封装
  • 概念:将多个芯片、被动元件集成在一个封装内

  • 优点:缩小体积、缩短互连、提高性能

  • 技术:可结合引线键合、倒装、TSV等技术

  • 应用:手机、物联网模块

9. PoP (Package on Package) - 堆叠封装
  • 结构:上下两个封装垂直堆叠

  • 典型组合:上层Memory + 下层Logic

  • 优点:节省PCB面积、缩短信号路径

  • 应用:智能手机AP+DRAM组合

10. FC-BGA (Flip Chip BGA) - 倒装芯片球栅阵列封装
  • 特点:芯片倒装连接到基板,底部BGA焊球

  • 优点:最短互连路径、最佳电气性能、良好散热

  • 应用:高性能CPU、GPU、AI芯片

二、封装工艺术语详解 11. Die Attach - 芯片贴装
  • 定义:将芯片固定到引线框架或基板上的工艺

  • 材料:导电胶(银胶)、绝缘胶、焊料、DAF(Die Attach Film)

  • 要求:良好的粘接强度、导热性、应力缓冲

  • 设备:Die Bonder

12. Wire Bonding - 引线键合
  • 定义:用金属线连接芯片焊盘与封装引脚

  • 材料:金线(15-50μm)、铜线、铝线

  • 方法:球焊、楔焊

  • 参数:键合力、超声功率、温度、时间

13. Flip Chip - 倒装芯片技术
  • 原理:芯片正面朝下,通过凸点直接连接基板

  • 凸点类型:焊料凸点、铜柱凸点、金凸点

  • 优势:最短互连、高I/O密度、良好散热

  • 挑战:CTE匹配、底部填充工艺

14. Molding - 塑封
  • 目的:保护芯片和键合线免受机械损伤和环境影响

  • 工艺:Transfer Molding(传递模塑)、Compression Molding(压缩模塑)

  • 温度:175°C左右

  • 关键:避免金线变形、减少应力

15. Lead Frame - 引线框架
  • 材料:铜合金(C194、C7025)、Alloy42

  • 工艺:冲压或蚀刻

  • 表面处理:镀银、镀NiPdAu、镀锡

  • 作用:支撑芯片、电气连接、散热

16. Substrate - 基板
  • 类型

    • 有机基板:BT树脂、FR4

    • 陶瓷基板:氧化铝、氮化铝

    • 金属基板:铝基、铜基

  • 层数:2层到16层以上

  • 功能:电气互连、机械支撑、散热

17. Underfill - 底部填充
  • 目的:增强倒装芯片焊点可靠性

  • 材料:环氧树脂+填料

  • 工艺:毛细管流动、预成型、模塑底充

  • 作用:应力缓冲、防潮、增强结合力

18. Die Saw/Dicing - 晶圆切割
  • 方法:机械切割、激光切割、等离子切割

  • 刀片:金刚石刀片,厚度20-35μm

  • 要求:避免崩边、裂纹、污染

  • 新技术:Stealth Dicing(隐形切割)

19. Solder Ball - 焊球
  • 材料

    • 有铅:Sn63Pb37

    • 无铅:SAC305(Sn96.5Ag3.0Cu0.5)、SAC405

  • 直径:0.1mm-0.76mm

  • 工艺:植球、印刷、电镀

  • 检验:共面性、球径、缺失

20. Reflow - 回流焊接
  • 温度曲线:预热→保温→回流→冷却

  • 峰值温度:有铅220°C,无铅250°C

  • 气氛:氮气保护减少氧化

  • 关键:防止温度冲击、控制升温速率

三、材料相关术语详解 21. EMC (Epoxy Molding Compound) - 环氧塑封料
  • 成分:环氧树脂+固化剂+填料(二氧化硅)+添加剂

  • 特性:低应力、低吸湿、高玻璃化温度(Tg)

  • 填料含量:85-92%

  • 发展趋势:Green EMC(无卤无锑)

22. Die Attach Adhesive - 芯片贴装胶
  • 类型

    • 导电胶:银填充环氧胶

    • 绝缘胶:纯环氧胶

    • 焊料:AuSn、SnAgCu

  • 性能要求:低应力、高导热、长期可靠性

23. Solder Mask - 阻焊层
  • 作用:保护PCB线路、防止焊接短路

  • 颜色:绿色最常见,也有黑、白、蓝、红等

  • 工艺:丝印、光成像

  • 厚度:20-30μm

24. TIM (Thermal Interface Material) - 导热界面材料
  • 类型:导热膏、导热垫、相变材料、液态金属

  • 导热系数:1-10 W/m·K不等

  • 应用:芯片与散热器之间

  • 要求:低热阻、长期稳定性

25. Cu Pillar - 铜柱
  • 结构:铜柱+焊帽(SnAg)

  • 高度:40-100μm

  • 优点:更细间距、更好电气性能、电迁移抗性

  • 应用:先进CPU、GPU倒装封装

26. RDL (Redistribution Layer) - 重布线层
  • 功能:重新布局I/O位置,实现扇入/扇出

  • 材料:铜线路+聚酰亚胺绝缘层

  • 线宽/间距:2-20μm

  • 应用:WLCSP、Fanout封装

27. TSV (Through Silicon Via) - 硅通孔
  • 定义:贯穿硅片的垂直电气连接

  • 直径:5-50μm

  • 深宽比:10:1到20:1

  • 应用:3D IC、CMOS图像传感器、HBM

28. Interposer - 中介层
  • 材料:硅、玻璃、有机材料

  • 功能:连接不同芯片,实现高密度互连

  • 特点:含有TSV和RDL

  • 应用:2.5D封装、异构集成

四、测试与可靠性术语详解 29. MSL (Moisture Sensitivity Level) - 湿度敏感等级
  • 等级:MSL1(无限期)到MSL6(必须6小时内使用)

  • 标准:J-STD-020

  • 存储:MSL2以上需要干燥包装

  • 烘烤:超期需要125°C烘烤去湿

30. Delamination - 分层
  • 定义:材料界面分离

  • 位置:芯片/EMC、EMC/引线框架、EMC/基板

  • 原因:湿气、热应力、污染

  • 检测:SAT(超声扫描)

31. Wire Sweep - 金线偏移
  • 原因:塑封时树脂流动造成金线移位

  • 后果:短路、断路

  • 预防:优化金线弧度、控制塑封参数

  • 标准:偏移量 <金线间距的1 < pan>

32. Die Crack - 芯片裂纹
  • 类型:正面裂纹、背面裂纹、边缘裂纹

  • 原因:机械应力、热应力、ESD

  • 检测:光学显微镜、SAT

  • 影响:功能失效、可靠性降低

33. Solder Joint - 焊点
  • 质量指标:润湿角度、填充高度、IMC厚度

  • 缺陷类型:冷焊、虚焊、枕头效应、空洞

  • 可靠性:温度循环、跌落测试

  • 失效模式:疲劳裂纹、脆性断裂

34. Thermal Resistance - 热阻
  • θJA:结到环境热阻(°C/W)

  • θJC:结到壳热阻(°C/W)

  • θJB:结到板热阻(°C/W)

  • 测量标准:JEDEC JESD51系列

  • 应用:计算结温,评估散热方案

35. CTE (Coefficient of Thermal Expansion) - 热膨胀系数
  • 单位:ppm/°C

  • 典型值

    • 硅:2.6 ppm/°C

    • 铜:17 ppm/°C

    • FR4:15-17 ppm/°C

    • EMC:8-20 ppm/°C

  • 影响:CTE失配导致应力和翘曲

36. Void - 空洞
  • 位置:焊点、底充、贴片胶

  • 标准:一般要求<25%焊点面积

  • 原因:助焊剂挥发、湿气、工艺控制

  • 检测:X-ray检查

五、尺寸参数术语详解 37. Pitch - 间距
  • 定义:相邻引脚或焊球中心距离

  • 趋势:1.27mm→1.0mm→0.8mm→0.5mm→0.4mm→更细

  • 挑战:PCB加工能力、焊接工艺

  • 影响:决定封装I/O密度

38. Stand-off Height - 离板高度
  • 定义:BGA/CSP封装底部到PCB距离

  • 典型值:0.1-0.5mm

  • 影响:底充工艺、清洗、检查

  • 趋势:越来越低,挑战增大

39. Package Body Size - 封装体尺寸
  • 表示:长×宽×高(mm)

  • 公差:±0.1-0.2mm

  • 趋势:持续小型化

  • 标准:JEDEC定义标准尺寸

40. Die Size - 芯片尺寸
  • 表示:长×宽(mm或mil)

  • 趋势:工艺进步使芯片面积缩小

  • Pad Pitch:焊盘间距,影响封装选择

  • Scribe Line:切割道宽度,60-120μm

六、先进封装术语详解 41. 2.5D/3D IC - 2.5维/3维集成电路
  • 2.5D:芯片并排放置在interposer上

  • 3D:芯片垂直堆叠,通过TSV连接

  • 优势:高带宽、低功耗、小尺寸

  • 挑战:散热、测试、成本

42. Fanout - 扇出型封装
  • FOWLP:扇出晶圆级封装

  • FOPLP:扇出面板级封装

  • 特点:RDL延伸到芯片外部

  • 优势:无需基板、设计灵活

43. Embedded Die - 嵌入式芯片封装
  • 概念:芯片嵌入PCB或基板内部

  • 优点:极短互连、良好屏蔽、节省空间

  • 工艺:激光开槽、芯片埋入、层压

  • 应用:高频模块、功率模块

44. Heterogeneous Integration - 异构集成
  • 定义:集成不同工艺、功能、材料的芯片

  • 例子:Logic + Memory + RF + MEMS

  • 驱动力:摩尔定律放缓、系统需求

  • 技术:Chiplet、3D集成、SiP

45. Chiplet - 小芯片
  • 概念:将大芯片分解为多个小芯片

  • 优势:提高良率、设计复用、混合工艺

  • 互连:UCIe等标准化接口

  • 趋势:未来主流架构之一

实践建议

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  1. 建立知识体系:将这些术语按照逻辑关系整理成思维导图

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