图1：使用Prime BSI Express拍摄的纳米尺图像。这些纳米尺中的每一个都是由DNA折纸，每个亮点之间的距离为40纳米。成功对这些亮点进行成像被用于评估成像系统的性能。
背景
John Danial 博士作为 Klenerman 实验室的一员，致力于开发针对阿尔茨海默症和帕金森症等复杂神经退行性疾病的生物物理方法。在这些疾病中，某些蛋白质会在大脑中积累并形成聚集体，通过极高灵敏度的超分辨率显微镜可以对这些聚集体进行研究，从而揭示大脑疾病的发病机制。
丹尼尔博士采用的方法涉及使用一种名为DNA基点累积纳米地形成像(DNA-PAINT)的超分辨率显微技术，这使得成像分辨率能够达到20纳米以下，从而让丹尼尔博士的定制成像系统能够研究纳米级聚集体。
挑战
DNA-PAINT涉及拍摄数千张图像并处理成超分辨率图像，这意味着过程中的任何干扰都会限制整体图像质量。
Danial博士谈到了之前使用的EMCCD解决方案，虽然其灵敏度高，但视野(FOV)较小限制了通量，且高速风扇产生的振动会干扰测量。
典型的CMOS解决方案也被考虑过，但在噪声特性和后处理能力方面存在不足，而这两点对于DNA-PAINT都是必不可少的。因此需要一种更高质量的CMOS解决方案，具备大视野、小像素和优异的噪声特性。
Prime BSI Express 具有出色的噪声特性和成像质量，它已成为我成像系统中最为可靠的部分!——约翰·丹尼尔博士
解决方案
Prime BSI Express 为该应用提供了理想的解决方案，其特点是拥有 18.8 mm 的大对角线视场，6.5 μm 的小像素(配合 100 倍放大时为 65 nm，非常适合过采样)，以及极高的灵敏度——这得益于近乎完美的 95% 量子效率(最大化信号收集)与 CMS 模式(将读出噪声降至接近 1 e-)的结合。
丹尼尔博士向我们分享了他的经验：“我对Prime BSI Express非常满意，它是我的成像系统中性能最稳健的部分，我很喜欢它的小型化设计……在安装以及使用SDK将相机集成到我们自定义的LabView软件中时，我没有遇到任何问题。”
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