国家知识产权局信息显示,中福世纪半导体技术(苏州)有限公司申请一项名为“一种金刚石定位植钻研磨盘及其制造方法”的专利,公开号CN122274862A,申请日期为2026年5月。
专利摘要显示,本发明属于研磨盘制造技术领域,具体涉及一种金刚石定位植钻研磨盘及其制造方法。对研磨盘基体依次进行除油活化处理、基础镀镍形成基础镍镀层,随后利用光刻技术在镀镍层表面制作预留植钻微孔的感光干膜图形,在微孔内进行点胶处理填充粘接剂,向其中植入金刚石磨粒并确保尖角保持向上姿态实现初步固定,最后脱除感光干膜并进行加厚镀镍加固处理,使金刚石磨粒被镍镀层牢固包覆。该方法利用光刻图形实现金刚石磨粒在基体表面的精准定位与均匀分布,并通过工艺控制使磨粒维持尖角向上的有利切削姿态,显著增强了磨粒把持强度,有效避免松动、倒伏或脱落现象。由此制得的研磨盘具有更优的切削效率和稳定性。
天眼查资料显示,中福世纪半导体技术(苏州)有限公司,成立于2024年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析,中福世纪半导体技术(苏州)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目7次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息12条,此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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