全球光刻机霸主ASML交出了一份让华盛顿颇为尴尬的成绩单。这家荷兰半导体设备巨头本周公布的2026年第三季度财报显示，其对中国的销售额较上一季度激增109%。
中国在ASML设备销售中的占比，从第二季度的14%跃升至23%。公司，中国全年将贡献其总销售额的约20%。
而就在同一时间，美国正不断向荷兰施压，要求进一步收紧对华出口那些技术并不算最先进的芯片制造设备。第三季度，ASML总净销售额达到117亿欧元，创下历史纪录。
当季共售出113台新光刻系统，比第二季度的86台明显增加。首席执行官傅恪礼表示，客户正在持续上调短期和中期的设备需求预测，主要驱动力是他们对AI投资规模和持续时间的判断。
一些客户甚至已经开始询问能否预订2029年乃至2030年的设备。要理解这份财报背后的意味，还得先看看ASML究竟是一家怎样的公司。
在荷兰一间戒备森严的ASML无尘室里，有一台造价超过4亿美元的庞然大物——它比一辆双层巴士还要大，是人类历史上最先进、最复杂的机床之一。
ASML位于荷兰的总部，全球100%的极紫外光刻机（EUV）都在此制造，新一代机型被称为High NA。High NA意为"高数值孔径"，是新一代EUV光刻机，也是全球唯一能够将纳米级电路图案印刻到最先进芯片上的设备。
英伟达、苹果、台积电、三星、英特尔——这些厂商的先进芯片都离不开EUV，而ASML垄断了这一市场。首台High NA光刻机曾安装在英特尔位于美国俄勒冈州的晶圆厂。
由于机器体积过大，必须拆解分批运输。
如今，这些机器正在少数几家负担得起的厂商——英特尔、台积电和三星的产线上加速投入量产。ASML表示，所有EUV客户最终都会用上该机型。
没有EUV，大多数AI应用都无从谈起。ASML至今仍在生产的上一代DUV光刻机使用波长为193纳米的深紫外光。
日本的尼康和佳能在DUV领域仍是其竞争对手。但ASML真正的突破，来自对一项被许多人认为不可能的技术的押注——使用波长更短的极紫外光。
至今没有其他公司能够做到这一点。晶体管已缩小到比人类头发丝细一万倍。
ASML决定自行研发更小、更精准的EUV光源，其波长仅为13.5纳米，相当于5条DNA链并排的宽度。CO2激光将熔融锡滴汽化，形成比太阳还要炽热的等离子体，由此产生EUV光子，再由德国蔡司提供的收集镜捕捉引入扫描仪，最终投射到晶圆台上。
台积电形容其精度相当于从月球发射激光命中地球上的一枚硬币。2024年，EUV机器仅占ASML全年售出设备的不到8%——44台EUV对比374台更便宜的DUV，但由于单价高达2.2亿美元，EUV贡献了ASML系统销售收入的38%。
ASML大约于2016年开始研发价值4亿美元的High NA机型。关键区别在于镜头孔径加大，光线以更陡的角度进入，一次曝光就能捕捉越来越精细的设计图案。
实际上，每颗芯片都要用到多种不同分辨率的光刻技术，一颗芯片由约100个不同图层构成，大多数图层实际上由DUV完成。老款DUV机器单价从不足500万美元到9000万美元不等，但仍占ASML销售额的一半以上。
日常生活中的许多芯片并不需要EUV——例如控制汽车车窗按键的芯片。ASML将大量传统机型销往中国，但美国出口管制禁止其向中国出售EUV，该禁令自特朗普第一任期起实施。
即便如此，出口管制并未阻止中国持续采购ASML的非先进机型。傅恪礼此前介绍，2022年市场高峰期ASML接到大量中国订单，2023和2024年全球其他市场需求下滑，公司因此集中产能完成中国积压订单。
中国市场本轮大幅反弹，有几个值得关注的背景。美国和荷兰现行的出口管制，主要针对最先进的极紫外光刻机和部分高端深紫外浸没式光刻机，大量成熟制程设备仍可正常出口。
中国芯片企业正在大规模扩建成熟制程产能，用于生产汽车、家电、工业控制等领域广泛使用的芯片。这部分需求为ASML带来了稳定订单。
此外，市场普遍存在"抢在管制前囤货"的心理。外界对出口限制可能进一步收紧的预期越强，中国企业提前采购的动力就越大。
亮眼的业绩，却让荷兰政府的处境更加微妙。荷兰首相正面临来自华盛顿的压力，美方希望把管制范围扩展到技术水平稍低的机型。
对荷兰而言，这是一道两难选择题。ASML是欧洲市值最高的科技企业之一，也是荷兰经济的"皇冠明珠"。
进一步限制对华销售，意味着放弃一块重要市场；拒绝美方要求，又可能影响跨大西洋的政治与安全关系。中国方面则一直反对将经贸问题政治化，认为相关管制违背市场规律，损害全球产业链稳定。
关税影响同样复杂，因ASML拥有800家全球供应商的庞大网络。
每台High NA机器由四个子系统组成，分别在美国康涅狄格州、德国、荷兰和加州制造，各模块单独运往荷兰Veldhoven总部组装测试，再拆解发往美国或更常见的亚洲晶圆厂。
运输一台机器大约需要7架波音747货机或25至30辆卡车。多年来，亚洲占ASML业务80%以上，但美国市场份额正快速增长。
随着英特尔在俄亥俄州和亚利桑那州新建晶圆厂，以及台积电在亚利桑那州进入量产，美国市场仍将扩大。ASML已着手研发下一代机型Hyper NA，其数值孔径更大，可印制更微小的结构。
目前ASML的重心仍是满足High NA的需求。
该公司计划今年再出货至少5台High NA系统，几年内将产能提升至年产20台。对这家光刻机巨头而言，如何在技术领先、商业利益与地缘政治之间找到平衡，将是比扩产更难的一道考题。
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