近日，北美洲最大规模、最具影响力的半导体行业展会之一“美国西部半导体展览会（Semicon West）”在美国旧金山落下帷幕。绍兴自远磨具有限公司首次参展，面向全球客户和产业链合作伙伴展示其高性能半导体研磨抛光材料的创新技术及产品优势，并与半导体设备、材料等领域供应链伙伴深入交流，加快拓展国际市场。
自远磨具公司展位商客络绎不绝
美国西部半导体展览会集中展示半导体产业的未来趋势及技术应用与创新，是各国半导体企业重要的技术交流平台，也是进入美洲市场的贸易平台。
自远磨具加快拓展国际市场
展会期间，自远磨具重点展示了公司金刚石研磨液、纳米抛光液、钻石减薄垫、碳化硅研磨液、碳化硼研磨液等半导体CMP材料产品。 自远磨具凭借自身多年的技术积淀，积极进行成果转化和新产品开发，现可为蓝宝石、碳化硅衬底等半导体行业相关企业提供清洁、高效、创新的平面研磨解决方案和精密、清洁、高效的CMP抛光解决方案以及方案配套的相关磨具产品。
01金刚石研磨液：
金刚石研磨液采用自远磨具公司自制的组团金刚石磨料为原料，添加适量助剂，搅拌分散得到组团金刚石研磨液，针对碳化硅衬底蓝宝石、陶瓷等材料进行精磨、细抛处理。
纳米二氧化硅抛光液由高纯纳米二氧化硅复合配置而成，通过高科技术分散成纳米颗粒，高含量分散均匀的纳米抛光液广泛用于半导体CMP化学机械抛光。
03钻石减薄垫：
钻石减薄垫采用的磨料为喷雾干燥法自制的金刚石组团磨料，将磨料和胶粘剂、助剂、填料等组分按一定比例混合分散得到均匀的浆料，再通过精密涂附和微复制转移技术，在基材表面形成阵列排布的磨块结构，配合平面研磨机使用适用于碳化硅衬底、玻璃、陶瓷等的减薄处理，具有研磨面光洁一致、研磨速率高、研磨寿命长的优点。
未来，自远磨具将继续深耕半导体行业， 结合本公司产品定位和市场需求，拟建成“三中心一网络”的发展支柱：在北京建立研发中心，一方面和高校、科研院所密切联系，建立产学研合作模式；一方面吸引高素质研发人员或优秀毕业生加入，形成公司持续发展的源动力；在保定建设生产交付中心，实现统一化、精益化生产管理，积极进行成果转化，提供可靠稳定产品；应用开发与展示中心则建在绍兴，与市场紧密结合，凭借完善的打磨抛光系统为客户提供现场订制化开发方案，大大缩减客户的试用时间和试错成本，以整体技术服务能力，建立深度合作基础和长久合作黏性。
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