在半导体行业，随着技术的不断进步和芯片尺寸的缩小，对生产环境的纯度和清洁度要求日益严苛。半导体制造过程涉及多个关键工艺环节，包括但不限于光刻、蚀刻、沉积、离子注入和化学机械研磨等。这些环节对环境中的微粒、化学污染物和金属杂质的控制极为重要，因为这些污染物的存在会严重影响芯片的性能和生产良率。
为了确保生产环境的高纯度，半导体工厂必须采用先进的过滤系统，以有效去除生产过程中涉及的液体和气体介质中的颗粒物、化学蒸气和气体杂质。这些过滤系统必须能够承受极端的化学反应条件和高温环境，因为半导体制造工艺常常在这些苛刻条件下进行。因此，过滤材料必须具备卓越的耐化学性和耐高温性，以确保在这些极端条件下也能提供持续稳定的过滤性能。
Dexmet延展过滤支撑网是专为半导体微电子行业等苛刻环境设计的高性能过滤解决方案。采用精密制造技术，精确控制滤网的厚度、孔径和图案，满足高精度过滤需求。主要材料为耐化学和耐高温的PFA和PTFE，确保在极端条件下提供持续稳定的过滤性能。Dexmet支持高度定制化，以优化超细膜层结构，防止变形，保持过滤效率。定制化能力使其成为满足特定应用需求的理想选择。
与此同时，Dexmet延展过滤支撑网作为增强过滤膜支撑材料，在终端过滤折叠式或螺旋缠绕滤芯中作为分离层/进料层/排水层，发挥关键作用。
Dexmet延展过滤支撑网的特点
● 强化微粒过滤与污染控制：通过精密的网眼结构，有效拦截微粒和污染物，从而减少晶片污染并提升半导体产品的质量和良率。
● 均匀的化学品分布与流动一致性：确保在半导体制造过程中化学品和气体的均匀分布和稳定流动，对于材料的均匀沉积和蚀刻过程至关重要。
● 动态流动条件下的稳定性和耐用性：在波动或高流速条件下保持结构完整性和稳定性，减少介质塌陷或移位的风险，同时提高过滤器的使用寿命，降低维护和更换频率，从而降低运营成本。
● 化学和气体过滤中的有效分离：提供高效、稳定的过滤性能，确保在化学气相沉积（CVD）和蚀刻等关键工艺中实现有效分离，降低污染风险。
● 清理与维护的便捷性：一体成型的延展网结构消除了交叉点，简化了清理过程，允许直接用水清洗或擦除，提高生产效率并减少停机时间。
● 高过滤效率与空间利用率：Dexmet延展网的过滤面积高达70%，而编织网仅有30-50%。更大的接触过滤面积，显著提高了过滤效率和空间利用率，从而加快了过滤速度。
● 产品质量的稳定性和可扩展性：从试验到大规模生产，Dexmet延展网提供一致的效果和效率，确保了产品质量的稳定性和生产过程的可扩展性。另外，作为能够生产PFA和PTFE延展网的少数制造商之一，Dexmet的产品已被全球领先的半导体公司广泛认可和信赖。
总的来说，Dexmet延展过滤支撑网凭借其卓越的耐化学性和耐高温性，精密定制的能力以及在各种动态条件下的稳定性，已成为半导体微电子行业中不可或缺的高性能过滤解决方案。它不仅强化了微粒过滤和污染控制，还确保了化学品分布的均匀性和流动的一致性，有效提高了半导体制造过程中的工艺控制精度。
在动态流动条件下，Dexmet延展网展现了出色的稳定性和结构完整性，为过滤器提供了可靠的支持，避免了介质塌陷或移位。此外，在化学和气体过滤中展现出的有效分离能力，进一步降低了污染风险，保证了半导体设备的高纯度，为半导体行业提供了一种长期、稳定和经济高效的解决方案。
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