最近，美国卯足了劲儿，想要在芯片制造领域重新坐上全球老大的交椅。为了这个目标，他们是又给钱又给资源，全力支持自家的芯片大厂Intel。可没想到，最近外媒爆了个猛料，说Intel在搞1.8纳米工艺的时候遇到了大麻烦，良率低得吓人，十颗芯片里头有九颗是坏的。
说白了可能是因为Intel太心急，一下子用了好多新技术。Intel是全球头一个吃螃蟹的，用了2纳米EUV光刻机来造芯片，到了1.8纳米，他们又用上了全新的Nanosheet技术。这么多新技术一起上，结果就搞得良率超低，芯片质量堪忧。
说起来，美国在扶持Intel这事儿上，那是下了血本的。光刻机的大佬ASML今年量产的10台2纳米EUV光刻机，有6台都给了Intel，这偏心程度，可见一斑。
但对Intel来说是好事，对台积电来说未必就是坏事。想当年搞7纳米的时候，台积电觉得技术太难，就没急着用第一代EUV光刻机，而是用老的DUV光刻机先搞出了7纳米，结果三星因为急着用EUV，7纳米量产反而落后了。
这2纳米EUV光刻机更难搞，Intel先上，说不定就得先栽跟头。台积电让Intel先去试试水，自己慢慢研究，等时机成熟了再用，说不定又能后来居上。
再说这新技术，台积电和三星之前也较量过。3纳米工艺上，台积电还是保守，继续用FinFET技术，三星呢，想一雪前耻，率先用了全新的GAA技术，结果台积电的良率55%，三星的只有20%左右。
这就是先进工艺的难处，新技术、新设备一起上，容易出问题，哪个都搞不好，最后就成了半吊子。三星之前用EUV光刻机和GAA技术，就吃了这个亏。
反观Intel，从2014年量产14纳米之后，技术进步就一直慢半拍，现在甚至还不如三星。这次他们这么激进，同时用2纳米EUV光刻机和Nanosheet技术，良率低也就不足为奇了。
现在的Intel，那叫一个风雨飘摇，这几年老亏钱，今年更是连着三个季度亏损，连CEO基辛格都被董事会逼着退休了。人心不稳，技术难度又高，1.8纳米出问题也就不奇怪了。
Intel这一垮，不仅仅是他们自己的损失，更是整个美国芯片行业的打击。美国想掌控芯片行业的野心，这下算是受挫了。他们全力扶持Intel，结果却是这样，以后美国芯片行业可能更得依赖台积电了。
台积电可不会放过这个机会，听说他们已经提出要涨价一成。美国芯片企业也是没办法，只能接受。台积电现在是越来越厉害了，净利润率都超过四成了，比美国好多大牌科技公司都高得多。这芯片行业的赢家，怕是要换人了。对此，你们怎么看？
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