金融界2025年6月21日消息，国家知识产权局信息显示，上海彤程电子材料有限公司、北京科华微电子材料有限公司、北京大学申请一项名为“一种负性光刻胶组合物及其用途”的专利，公开号CN120178598A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明提供了一种负性光刻胶组合物及其用途，涉及光刻技术领域。该负性光刻胶组合物，原料组分包括：溶质和第一溶剂；其中，所述溶质包括70wt％‑96wt％碱溶性树脂、1wt％‑30wt％光致产酸剂、1wt％‑20wt％交联剂、0.1wt％‑15wt％酸淬灭剂、0.01wt％‑3wt％表面活性剂和0.1wt％‑0.2wt％特殊添加剂；所述特殊添加剂为有机胺类化合物；所述第一溶剂的质量为碱溶性树脂质量的1‑15倍。本发明通过使用特定种类的有机胺类化合物作为特殊添加剂，能够改善光刻胶底角及驻波等缺陷问题。

本文源自：金融界

作者：情报员