2026年开春，尼康披露了一个让日本产业界震惊的数字。
这家创立逾百年的光学巨头，预计2025财年净亏损高达850亿日元，创下公司有史以来最大亏损纪录。官方解释将主因归咎于3D打印机业务拖累，但所有人的目光都落在另一个更刺眼的数据上：过去半年，尼康光刻机总出货量仅9台，而且几乎全是成熟制程设备。
荷兰ASML同期仅高端EUV光刻机就出货超过20台，总出货量高达160台。
9对160，不是差距，是时代的判决书。
要理解尼康今天的处境，必须回到2002年的那次会面。
那一年，台积电资深工程师林本坚带着一个激进的构想，敲开了尼康的大门。当时，193纳米干式光刻机正逼近物理极限，业界普遍认为下一步必须开发157纳米干式光源，而这条路成本高昂，技术风险极大。林本坚的想法则完全不同：在镜头与晶圆之间注入超纯水，利用水的高折射率突破光源瓶颈，成本更低，效果更好。
这就是后来改变整个半导体产业的浸没式光刻技术。
尼康的回应，是拒绝。而且是带着优越感的拒绝。在当时的尼康高管看来，将世界顶级精密光学镜头泡进水里，简直是对光学工程的侮辱。更关键的是，尼康当时已经在157纳米干式路线上投入了逾七亿美元，掉头意味着这笔巨额投入全部打水漂，这是任何高管都无法向董事会交代的选择。
林本坚随后飞往荷兰，见到了ASML技术负责人马丁·范登布林克。彼时的ASML还是行业里的追赶者，急需破局机会，对新技术路线有着完全不同的开放态度。范登布林克当即决定押注，调集公司全部资源攻关浸没式技术。
2004年，ASML浸没式光刻机正式问世，迅速横扫市场。尼康引以为傲的精密光学优势在新技术路线面前瞬间失效，其占据多年的全球光刻机市场半壁江山随之易手。根据行业数据，ASML的市场份额从2001年的约25%，在2002至2004年间急速跃升至超过50%，而尼康的份额则持续下滑。
浸没式技术的失利本来还有翻盘的机会，但尼康在下一场赌注上又全押错了方向。
面对市场份额的流失，尼康将希望寄托在更下一代的EUV（极紫外光）技术上。EUV使用波长仅13.5纳米的极紫外光，理论上可以实现更精细的芯片制程，是公认的下一代光刻技术路线。尼康启动了大规模EUV自研项目，并确立了一个雄心勃勃的原则：全自研、全日本产。
日本政府将此视为国运之战，以经济产业省为主导，联合尼康、佳能、东京电子等企业，以及东京大学等顶尖院校，构建起一个庞大的产官学联合攻关体系，累计投入数百亿日元资金。
但这场封闭式冲锋遭遇了一堵隐形的墙。
美国以国家安全为由，将尼康和佳能排除在EUV技术联盟之外，切断了日本获取美国关键技术资源的通道。ASML在英特尔、三星、台积电的战略投资支持下，将全球最强的EUV产业链悉数纳入麾下，德国蔡司提供顶级光学镜头，美国Cymer提供光源，形成了一个没有任何单一国家能独力复制的技术生态。
尼康的千亿日元，最终换来一台无法商用的原型机。
2018年前后，尼康宣布终止EUV光刻机商业化开发，正式退出高端光刻机赛道的竞争。2025年9月，尼康关闭了运营长达58年的横滨工厂，光刻机业务进一步收缩。
从前方看，ASML已经绝尘而去，其最新型号的High-NA EUV光刻机售价高达3.5亿美元一台，技术代差已无法在短期内弥合。从后方看，中国光刻机企业正在加速追赶，持续蚕食尼康赖以维持现金流的成熟制程市场，上海微电子等本土企业已具备供应28纳米制程光刻设备的能力。
腹背受敌，9台的出货量，是这个处境最诚实的注脚。
尼康的故事，最终留下的教训清晰而残酷：在技术路线的关键分叉口，傲慢的代价不会立刻结算，但账单终究会来。
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