国家知识产权局信息显示，富士胶片商业创新有限公司申请一项名为“硅氧烷化合物膜、部件、定影装置、图像形成装置及硅氧烷化合物膜的制造方法”的专利，公开号CN122449873A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，一种硅氧烷化合物膜、部件、定影装置、图像形成装置及硅氧烷化合物膜的制造方法，所述硅氧烷化合物膜含有以Si、O、C及H为构成元素的硅氧烷化合物，在通过X射线光电子能谱法（XPS）测定的光谱中，在100eV以上且103eV以下的范围内具有峰值，所述峰值的半峰宽为1.80eV以上且4.00eV以下。

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作者：情报员